现代技术 现代设备
中频磁控溅射镀膜技术是磁控技术另一新里程碑，是镀制化合物及氧化物系膜的理想设备，彻底克服了打弧现象，并具溅射速率快等优点，适合镀制铟锡合金（ITO）、氧化铝（AL2O3）、二氧化硅（SiO2）、氧化钛（TiO2）、氮化硅（Si3N4）等，配置多个靶及膜厚仪可镀制多种多层膜。 |
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| 应用示例 |
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| 高级汽车后视镜 |
高级装饰品上
的透明保护膜 |
新型多层超
硬涂层 |
光学薄膜
（如增透膜） |
ITO及LOW-E
玻璃生产线 |
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| 中
频 磁 控 溅 射 镀 膜 机 型 号 及 规 格 |
| 型号 |
ZCK-1000 |
ZCK-1200 |
ZCK-1300 |
| 镀膜室内尺寸 |
Ф1000X1250 |
Ф1200X1250 |
Ф1300X1500 |
| 极限真空 |
10-4Pa |
10-4Pa |
10-4Pa |
| 抽气时间 |
常温抽至6.6X10-2Pa,小于8分钟 |
| 膜厚仪* |
配晶振测厚仪 |
| 蒸发源* |
电阻蒸发：4对电极各5Kw |
| 孪生靶 |
一对（中频） |
| 高压轰击 |
3000V
600MA |
3000V
600MA |
3000V
300MA |
| 工件旋转方式 |
公自转变频调速 |
| 配置机组
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K-600、ZJ-600、
2X-70 |
KT-600、ZJ-600、
2X-70 |
KT-600、ZJ-600、2X-70或
KT-800、H-150、ZJ-600 |
| 充气系统 |
质量流量控制仪 |
| 烘烤温度 |
350℃ |
350℃ |
350℃ |
| 自动控制PLC及触摸屏 |
| 说明：带*配置由用户选配，并可由用户订造其他规格。 |
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