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真空镀膜及其工艺特点和应赋予涂层的功能-广东振华真空镀膜设备

真空镀膜是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法,过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用温式的电镀法或化学被法。

真空镀膜设备

在电镀法中,被电解离子被到作为电解液中另一个电极的被被件表面上而成膜,因此,其基体必须是良导体,度钱膜层厚度也难以控制。化学法是应用化学还原原理使镀膜材料(称膜材)溶液参加还原应后,沉积在基体表面上而成膜。这两种方法不但膜的附着力差、膜层厚度不均、难以制,而且还会产生大量的废液造成环境污染,从而,在薄膜制备上受到了很大的限制。干式镀膜与湿式镀膜相比较有着突出的优点:

1、在真空条件下制备薄膜环境清洁,膜层不易受到污染,可获得致密性好、纯度高膜层厚度均匀、易于控制的涂层。

2、膜材和基体材料有广泛的选择性,可制备各种不同的功能性涂层。

3、膜的附着力(附着强度)好,膜层十分牢固,不易脱落。

4、在工艺过程中不产生废液,无环境污染,可实现绿色生产。