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真空镀膜的发展历程和最新进展-广东振华真空镀膜设备

在物体表面上涂覆一层薄膜,我国早在2000多年前就已经出现。它是一种把金属汞合金涂覆到青铜器上经过加热使汞蒸发后沉积在其上的一种涂层制备方法。这种方法虽然不是真空镀膜法,但是,它在薄膜制备技术上所留给人们的启示是不可磨灭的。这里所讲述是在真空气氛中制备薄膜的真空镀膜法(又称真空沉积法)。这种方法最早始于20世纪初大发明家爱迪生所提出的在唱片上涂覆蜡膜,就是真空镀膜最早应用的实例。但是,当时由于受到真空技术及其他相关技术发展的限制,发展比较缓慢。直到二次世界大战期间,德国为了适应当时战争的需求,在镜片和反光镜上镀制铝膜,才使真空蒸发镀膜进入到实际应用阶段。近年来,随着高新技术的迅速发展,作为新技术革命的光导、能源、材料和信息科学等三大支柱所要求的具有特殊形态材料的薄膜,已经成为光学、微电子、传感器、信息能源利。

用等一系列先进技术的基础,并已广泛渗透到当代科学技术的各个领域中,而且,开发和应用这些具有特殊用途的薄膜材料本身就是高新技术的重要组成部分。目前,在新材料开发最活跃的一些领域中,例如,新型材料的合成与制备;材料表面与界面的研究;纳米材料的开发;非晶态,准晶态材料的生成,材料各向异性的研究,亚稳材料的探索;晶体中杂质原子及微观缺陷的行为与影响;粒子束、光束与物质表面界面的相互作用;物质特异性能的挖掘等新技术,无一不与真空薄膜相关联。20世纪80年代以来,以真空技术为基础利用物理化学等方面并且吸收了等离子体、电子束、分子束、离子束等系列新技术,把原始单一的真空蒸发镀膜技术发展到包括真空蒸发镀、溅射镀、离子镀、化学气相沉积、分子束外延、离子束流沉积以及薄膜厚度的测量与监控,薄膜的结构、形态、成分、特性等诸多技术在内的,被称为“薄膜科学与技术”的新学科领域。目前,随着薄膜的制备与薄膜材料的开发,我国已经具有相当规模的薄膜行业,真空镀膜发展前景十分广阔。