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真空镀膜之薄膜的附着能力-广东振华真空镀膜设备

薄膜的附着力是指在膜与基片界面上使膜与基片分离开来所需的垂直于界面的拉力或平行于界面上的剪切力。它是反映膜与基片间的相互作用,评价膜层在基片表面上附着是否牢固的重要特性之一。其附着机理,除了前面所叙述的范氏力、静电力及化学键力等因素外,还与成膜过程中,在膜基界面上因沉积原子的能量较高成较高的基片温度等原因,致使膜层与基体界面间形成了所谓的“伪扩散层”(即中间界面层)从而使附着力大大增强,这就是离子镀涂层远比蒸镀或溅射镀附着力高的原因所在。

真空镀膜设备

在真空镀膜工艺中,影响膜基界面上附着力的因素较多,为了得到附着力牢固的膜层除了考虑创造成膜过程中的吸附条件和消除膜的应力这两个内在因素外,还应当对影响附着力的外因方面采取措施。