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蒸发源及其设计与使用中应考虑的问题-广东振华真空镀膜设备

在真空蒸发镀与真空离子镀的过程中,将膜材置于1000~2000℃高温下,使其蒸发的装置,称为蒸发源。蒸发源种类较多,蒸发源汽化膜材的原理也各不相同。但是,就用特点而言,在设计或应用时,主要应考虑如下几方面问题:

真空镀膜设备

1、蒸发源应满足膜材蒸发时具有较大的蒸发速率,并且,能存储足够数量

2、蒸发源应具有较好和较长的使用寿命;

3、蒸发源的使用范围,应当广泛,既可蒸发金属或合金(如A1、Ti、Fe、Co、Cr)蒸发化合物(如SiO、SiOz、ZnS等);

4、蒸发源在结构上应力求简单易于制作、使用维护方便、运转费用低廉基于这些要求,对目前最常选用的各种蒸发源,分别予以阐述。