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激光加热式蒸发源-广东振华真空镀膜设备

利用高功率的激光柬作为热源对膜材进行加热的装置称为激光加热式蒸发源。由于面蒸发源可以避免坩污染、膜材蒸发速率高、蒸发过程易于控制,特别是高能量的激光以在较短的时间内将膜材局部加热到极高的温度使其蒸发,这样就可以保持其原有的元分的比例等特点。因此,非常适用于蒸发那些成分比例较复杂的合金或化合物材料。例高温超导材料中的YBaCu0以及铁电陶瓷、铁氧体薄膜等材料。

真空镀膜机

激光加热式蒸发源中经常采用的是连续输出的CO:激光器,它的工作波长为10.6pm在这一波长下,许多介质材料和半导体材料都有较高的吸收率。激光束加热采用的另一种光器是波长位于紫外波段的脉冲激光器。如波长为248nm,脉冲宽度为20ns的KrF准分子激光等。由于在蒸发过程中,高能激光光子可在间将能量直接传递给膜材原子。因而,这种方法产生的粒子能量,通常均高于普通的蒸发方法。

光束穿过透镜在可转动的反射镜上被反射到增埚上,在反射镜表面激光束照射不到的部分用挡板遮挡,使之不受蒸发物的沾樂因面,增加了反射镜的使用寿命、通常,将藏发材料制成粉末状,以增加对激光的在激光加热方法中,需要采用特殊的窗口材料将激光束引人到真空镀膜室中。并应使用透镜式凹平镜将激光束聚焦至膜材上。而且,应当针对不同波长的激光束,选用具有不同光谱透过特性的窗口和透镜材料

激光蒸发源的缺点是容易产生微小的膜材颗粒的飞溅,对膜的均匀造成一定程度的影响,这一点在使用时应给予一定的注意。