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溅射靶的结构及其设计要求-广东振华真空镀膜设备

利用气体放电过程等离子体中所产生的正离子,轰击带有负电位的膜材表面,使其我出来的粒子(原子)沉积到基体成膜的装置,称为溅射靶,简称靶。

真空镀膜设备

溅射靶在结构上主要由鞋材、支撑靶材的靶体以及屏蔽罩等部件所组成。

溅射靶在结构设计上的要求是:

1、射应具有高的溅射率和好的冷却效果并且易于获得大面积厚度均匀膜层;

2、靶表面的刻蚀区废均匀并应具有高的靶材利用率;

3、靶材与背板的连接紧密,更换靶材时应拆卸方便;

4、防止溅射非靶材零件,消除非靶材粒子对膜层的污染。