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靶材的选用原则及其分类-广东振华真空镀膜设备

随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技术的日益发展,目前,几乎可以说,对任何材料都可以通过离子轰击靶材制备薄膜,由于靶材被溅射的过程中将其涂覆到某种基片上,对溅射膜的质量有着重要的影响,因此,对靶材的要求也更加严格。在靶材选用上,除了应按膜本身的用途进行选择外,还应考虑如下几个问题:

真空镀膜机

1、靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性。

2、靶材与基体结合必须牢固,否则应采取与基体具有较好结合力的膜材,先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备。

3、作为反应溅射成膜的膜材必须易与反应气体生成化合物膜。

4、团在满足膜性能要求的前提下,靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小溅射膜热应力的影响。

5、根据膜的用途与性能要求,所选用的靶材必须满足纯度、杂质含量、组分均匀性、机械加工精应等技术要求。