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真空镀膜蒸发原理及蒸镀条件-广东振华真空镀膜设备

真空蒸发镀膜是这样的。它是将膜材置于真空镀膜室内通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后,蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出,在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子(主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,可吉接到达基片表面上凝结而生成薄膜。

从这一原理中不难看出,真空蒸发镀膜的工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子(主要是原子)在气相中的迁移,到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。现就这三个过程分述如下。

1、膜材的蒸发过程

(1)膜材的蒸发温度与蒸气压

膜材在蒸发源中的加热蒸发,可使膜材粒子以原子(或分子)的形态进人到气相空间中。由于金属或非金属材料,在真空中,蒸发要比在大气压下蒸发容易得多,所需的蒸发温度有所降低,因此可缩短它的熔化过程,提高膜材的蒸发效率。如铝在大气压下的蒸发温度为2400℃。但是,在1.3×10-Pa的真空条件下它的蒸发温度就会下降到847℃.由于一般材料均具有这种在真空气氛中易于蒸发的特性,因此在真空气氛下为膜材的燕发创造了一个极为有利的条件。