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基片温度对蒸发涂层的影响-广东振华真空镀膜设备

基片温度对蒸发涂层的影响很大,高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排除。特别是水蒸气分子的排除更为重要。而且,在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变,从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸气分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异,从面减少或消除膜基界面上的内应力。

此外,由于基片温度与膜的结晶状态有关,在基片温度低或不加热的条件下,往往容易形成非品态或微晶态涂层。相反在温度较高时,则易于生成品态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然,基片温度也不能过高,以防止蒸发涂层的再蒸发。