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真空蒸镀铝涂层-广东振华真空镀膜设备

在纯金属涂层的制备上,大都采用真空蒸镀法。而纯金属中铝涂层,由于它用途广泛如制镜工业中的以铝代银,集成电路中的铝刻蚀导线;聚酯薄膜表面镀铝制作电容器;涤纶聚酯薄膜镀铝制作、防止紫外线照射的食品软包装袋;涤纶聚酯薄膜镀钴后再镀铝制作磁带等。因此,近年来真空镀铝工业在国内外不但发展迅速,而且,正向着溅射法、离子镀法等镀膜技术领域发展。

真空蒸镀铝薄膜既可选用间歇式真空蒸发镀膜,也可选用半连续式真空镀膜机。其蒸发源可为电阻源,电子束源,也可以选用感应加热式蒸发源,可依据蒸镀膜材的具体要求而定。

真空蒸发镀铝涂层的工艺参数,主要包括蒸镀室的压力、沉积速率、基片温度、蒸晖等。如果从膜片基体上分布的均匀性上考虑,还应当注意蒸发源对基片的相对位置及工件栗的运动状态等方面的因素。例如,选用电子束蒸发源进行铝涂层制备时,其典型的主要工参数可选用[6镀膜室工作压力为2.6×10-Pa、蒸发速率为2~2.5nm/s、基片温度20℃、蒸距为450mm、电子束枪电压为9kV,电流为0.2A。