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分子束外延生长金单晶涂层-广东振华真空镀膜设备

具有真空性能好、化学性能稳定、耐电子束轰击而且其晶面距只有零点几纳米膜厚(如 too=0.204nm或t220=0.144nm等)的金单晶涂层,除了可供电子衍射实验用以验证电子的波动性外,还可广泛地用于高分辨透射电子显微镜的晶格分辨率(或称之为线分辨率)鉴定样品上。

真空镀膜设备

选用真空蒸发法制备金单晶膜简单易行。其制备方法实质上就是直接生长的异质外延,也就是金属蒸气沉积,并外延生长。在特别制备的卤化碱单晶基体上的一种方法。由于这种金涂层的品质主要与基体的材料、制备和其加热状况、金蒸气的沉积速率以及真空蒸镀室内的压力等因素有关。因此,只有严格地控制这些因素之间的关系,才能制备出优质的单晶金膜因此在外延生长工艺中严格选择基体材料和适度的选用晶格的匹配率(最好小于15%);对基体材料通过适当的加热使其具有较好的金原子分散性,以促使金原子能在其表面上迁移,并固定在合适的成核和生长位置上,避免金容易从基体上剥离开来等都是十分重要的。