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真空离子镀膜设备的结构设计有哪些要求-广东振华真空镀膜设备

离子镀是1950年代初在美国开发的技术,属于航空技术的一部分。该技术一经研发,便有了迅速的发展。它由于对切削工具和模具的耐用性的提高非常有效,因而应用十分广泛,遍布全球。真空离子镀膜设备是通过对热量以及来自等离子体的能量的利用,在真空环境中将金属蒸发,使其与反应性气体结合,然后将其用于轰击基材,最终成膜。比之传统的浸泡镀膜,它有优越的耐磨性和粘附性。

真空离子镀膜设备

对于压力在10⁻³Pa~10⁻⁴Pa范围内的真空离子镀膜设备的设计,有以下结构的要求:

1、电阻值。根据GB/T 11164一99标准中的规定,来决定真空室所接不同电位间的绝缘电阻值的大小。

2、离子轰击电源。离子镀膜机通常具有基材负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具备将非正常放电有效抑制的功能,以达到稳定的工作状态。

3、基材架。基材架与真空室体之间应有绝缘设计,基材架的设计要考虑基材镀制的膜层均匀问题。

4、加热系统。加热系统需要合理的布置,加热器结构布局要考虑到基材的温升均匀问题。

5、沉积源。设计离子镀沉积源要充分考虑镀膜过程中的离化率问题,将离化率尽可能地提高,同时提高了靶材利用率。沉积源的功率要合理匹配,沉积源在真空室体的位置同样需要合理的布置。

6、观察窗结构。真空镀膜室设有观察窗,在此观察窗上设置挡板。要求观察窗可观察到沉积源以及其他关键部位的工作状态。

7、蒸汽与油的捕集。若设备使用的抽气系统是以扩散泵为主泵,则要合理设置油蒸气捕集阱。

8、屏蔽与测量装置。真空测量规管安装于低真空和高真空管道上及真空镀膜室上,可分别各部位的真空度进行测量。若电场干扰了测量,应安装电场屏蔽装置于测量口处,用以阻截该电场。

9、密封装置的结构。根据GB/T 6070标准中的规定,来决定设备中的真空管道、密封圈、密封法兰等装置的结构型式。

真空离子镀膜设备通过将蒸发的金属与反应性气体结合来形成薄膜,该薄膜比湿式镀膜更具耐磨性,使产品的使用寿命有效地提高。在镀膜过程中,发生放电时,成膜金属原子在等离子体中以高动能发生电离,从而加速并与基材发生碰撞,形成的薄膜具备更高的粘合力。