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真空分析器在镀膜工艺中有哪些应用-广东振华真空镀膜设备

真空分析质谱计根据分析器是否能够做定量的分析,区分为分压力计和残气分析器这两种类型。而分压力计所指的就是可满足一定的定量分析精度要求的一种真空分析器。真空分析质谱计在许多表面处理、残气分析以及镀膜工艺中,都有非常广泛的应用。

1、真空、表面研究

一般情况下的真空研究中,真空分析质谱计的主要是用来对其真空系统内的残余气体进行分析。

对于表面研究而言,当前已联合了真空质谱计和场致发射显微镜、化学分析电子谱仪、二次离子质谱计、俄歇电子谱仪和低能电子衍射仪等仪器来进行使用,以此对低压力环境下的真空物理过程进行研究。一般来说,对于10⁻⁹Pa或更低的压力环境,需做分压力测量。由于此类研究所采用的真空排气系统多为无油或少油的真空抽气泵组,因此,通常对于质谱计的测量范围没有硬性的要求。

2、专用器件的残气分析

专用器件(如电子显微镜、X射线管、阴极射线管和大型超高频电真空憬件)的残气分析不像上述的真空、表面研究,专用器件的残气分析并不需要对那么低的分压力进行检测,而是对真空分析仪器的工作质量范围有一定的要求,要求它具有较宽的测量范围,起码也需要具备检测真空泵油的裂解物的能力。

3、镀膜工艺

真空分析器在镀膜工艺中的地位十分重要。在薄膜制备时,采用真空分析器对其成膜工艺过程进行控制是非常有必要的。譬如说在蒸镀工艺中,它的作用体现在减少残气以防发生氧化;而在溅镀工艺中,它的作用则着重体现在所充气体的纯度控制与检测(如对O₂和Ar的杂质含量控制)。