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镀膜设备对真空分析质谱计有哪些要求-广东振华真空镀膜设备

真空分析质谱计是真空镀膜过程中不可或缺的一部分,对于不同的镀膜工艺,它所发挥的主要作用亦有所不同,但是它们对其要求却基本上是一致的。镀膜设备对真空分析质谱计的一般要求有以下几点:

1、要求扫描速度需较高,至少要实现将一部分质谱分析显示在示波器上的基本功能;

2、真空质谱计的离子源工作参数尽量要固定,方便操作;

3、质谱计以线性的质量标度为佳,要便于调节工作质量范围;

4、真空质谱计的离子源可通过电子轰击进行除气,以减小“记忆效应”的影响;

5、真空质谱计探头应具有互换性,可经受400°C的高温烘烤。可一机可配置多探头,要求探头成本要低、尺寸要小、质量要轻、安装要方便。

6、要求摆线型仪器和磁偏转型仪器的杂散磁场要很小;

由于真空质谱分析计是根据本身能否定量分析来分为残气分析器和分压力计的,所以对于分压计还有不同的要求:

1、需具备一致的峰宽和良好的峰形,使计算机数据的处理更方便;

2、要选择标准的电子轰击能量,才可能使用标准的离子谱;

3、选择工作温度低的阴极以及低发射电子流,可减少对分子的电清除、热分解及化学清除效应等方面的作用;

4、选用摆线型和磁偏转型质谱计,可在磁铁重新进行安装后,不需再对仪器的性能做校准;

5、探头连接管要有较大的流导,可减轻质量歧视和减小压力差,若能制成裸规形式的探头则更为理想;

6、质谱的峰强与图形系数对应镀膜真空室中的气体量之间要有一定的定量关系。

镀膜设备对真空分析质谱计的选择中,若是有特殊目的选择仪器的话,要先从所需要的质量范围入手,对所要求的最小可检分压力作确定,再对于此灵敏度下仪器的扫描速度和分辨本领进行考虑等。