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半导体真空镀膜设备污染有哪些来源-广东振华真空镀膜设备

半导体真空镀膜设备是由许多精密的零部件所组成的,这些零部件均经过许多机械加工流程而制作出来,如焊接、磨、车、刨、镗、铣等工序。正因为有了这些工作,导致设备零部件表面不可避免地会沾染一些加工带来的油脂、油垢、金属屑、焊剂、抛光膏、汗痕等污染物。这些污染物在真空条件下易挥发,从而对设备的极限真空造成影响。

此外,这些机械加工带来的真空污染物在大气压环境中吸附大量的气体,而到了真空状态下,这些原先吸附的气体也会被再次释放出来,成为限制真空系统的极限真空的一大主要因素。为此,在真空镀膜机零件组装之前,必须先将污染物清除掉。

在使用真空设备过程中,其零部件还会受污染。不过这种来源的污染主要是使用条件、真空泵两方面造成的。

1、真空规管的灯丝在高温条件下蒸发,将导致陶瓷绝缘子上形成一层薄膜,对其绝缘强度有一定的损坏,对其测量的准确性也有一定的影响;

2、由于高温蒸发,会使真空中的电子枪的灯丝附近表面形成一层金属膜;

3、由于工件溅射,离子束刻蚀设备的内壁会被溅散物所污染;

4、真空蒸发镀膜设备的内壁会被其蒸镀靶材材料污染;

5、经常使用真空干燥系统,该系统会受蒸发出来的物质所污染;

6、半导体真空镀膜设备中的扩散泵油、机械泵油等更是一大主要污染来源,镀膜机长期工作后,设备内部可能会形成一层油膜。

综上所述,设备的真空卫生涉及到真空设备、真空系统、真空工艺生产等各方面与环节,涉及到了半导体真空镀膜设备本身和特殊真空工艺对使用条件的要求,因此,真空污染是一个值得被重视的问题,因为这些污染会影响设备性能,应注意定期或随时进行清洁工作。