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什么是溅射镀膜-广东振华真空镀膜设备

在1812年,格罗夫(Grave)在实验室中发现了阴极溅射现象,他是在研究电子管的阴极腐蚀问题时发现阴极材料会迁移到真空管壁上面去的现象。将溅射原理应用于薄膜的制备是1870年就已开始,但是在过去的100多年中溅射工艺的发展很缓慢。

溅射镀膜设备

在1940年以后,发现了溅射膜层具有极优良的性能,同时改善溅射装置、提高溅射速率的各种新工艺相继出现并达到实用化的程度,这才使溅射技术迅速地发展,并在工业上广泛地使用。

溅射镀膜用的最简单的装置是直梳二极溅射镀膜装置。在镀膜真空室内充以10~1Pa的惰性气体(例如氩或氙),被溅射的镀膜材料作为阴极,将基片作为阳极并接地。整个工作系统在阴阳极之间加上几千伏的直流电后,产生辉光放电现象,由放电形成的正离子在电场作用下朝着阴极(靶子)方向加速,并轰击阴极。在离子的轰击作用下,镀膜材料从阴极上溅射出来(主要是以中性原子的形式,部分是以离子的形式),被溅射出来的拉子冷凝在放置于阳极的基片上,这样就形成我们常见的薄膜。