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什么是溅射镀膜设备的溅射系数-广东振华真空镀膜设备

在阴极溅射时,溅射镀膜设备的靶材的表面会发生一些物理和化学变化。主要是靶材会产生急剧的升温,有人估计入射离子中有75%的热量加热了靶材。靶材的升温给靶结构的设计和靶材的散热提出了要求,而且成为限制提高靶的功率和溅射速率的主要因素。轰击的离子在靶材表面可能产生晶体结构的缺陷,例如,空位和位错。一部分离子也有可能注入靶材表面。此外,在多组分的靶材表面,由于各组分的溅射系数不相同,在离子轰击下表面的化学成分会发生变化。对于由化合物构成的靶材,在离子轰击时表面的化合物会发生离解,这就使膜层和靶材的化学配比发生偏差。

多弧磁控溅射镀膜设备

溅射效应中最重要的参数是溅射系数。它的定义是一个入射的正离子撞击阴极时所能溅射出的原子数,它的单位是:原子/离子。

单晶体靶材:对于单晶靶材来说,不间的晶体方向上有不同的溅对系数,所以被溅射出来的原子分布并不服从余弦定律,而是沿着晶体点阵中原子的最密堆积排列的方向最大。

多晶体靶材:当溅射镀膜设备靶材为多晶体时,总的溅射系数是各晶面溅射系数的平均值。此外,多晶体靶材经过溅射后,表面会变得不平整,这是由于各晶面的溅射系数不同而造成的。

在一定的条件下,溅射镀膜设备单位时间内被溅射的材料量,与气压和阴-阳极间距离成反比。溅射量随放电电流及电压的增加而增加,随着气体压力或阴-阳极间距离的增加,由于与其它粒子碰撞使到达基片的粒子数也相应地减少。