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什么是真空溅射镀膜技术-广东振华真空镀膜设备

真空溅射镀膜就是一种给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。

真空溅射镀膜机

一、磁控溅射镀膜的定义

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。

二、辉光放电的定义

辉光放电是指在稀薄气体中,两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

三、特点

1、真空溅射镀膜的优点

(1)对于任何待镀材料,只有能做成靶材,就能实现溅射

(2)溅射所获得的薄膜与基片结合良好

(3)溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好

(4)溅射工艺可重复性好,膜厚可控制,同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜

2、真空溅射镀膜的缺点

(1)溅射设备复杂

(2)溅射淀积的成膜速率低,真空蒸镀淀积速率为0.1~5μm/min

(3)基板升温较高和易受杂质气体影响