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真空镀膜材料有哪些作用-广东振华真空镀膜设备

目前,薄膜材料制备技术主要包括:PVD (物理气相沉积技术)和CVD (化学气相沉积)技术。经过多年发展,真空镀膜技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括真空蒸镀和真空溅镀。

真空镀膜材料

薄膜生长于基板(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成,具有截止、吸收、滤光、增透、分光、反射、保护、干涉、防静电、防污、防水、导磁、绝缘、导电、耐腐蚀、耐高温、耐磨损、防辐射、抗氧化、复合和装饰等功能,并能够提高产品质量、节能、环保、改善原有性能、延长产品寿命等。

真空镀膜技术是主要的制备薄膜材料技术之一,指在真空状态下,采用物理的方法,将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在真空镀膜技术下,用于制备薄膜材料的物质,统称为真空镀膜材料。

真空镀膜材料主要用于制备各种具有特定功能的薄膜材料,应用领域包括半导体、高档装饰用品、节能玻璃、光学元器件、 工具改性、平板显示、光磁记录媒体、 LED、太阳能电池等。