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薄膜制备有哪些技术-广东振华真空镀膜设备

薄膜本质上就是一种物质形态,这种形态所使用材料非常广泛,这些材料可以是无机材料或有机材料,也可以是单质元素或化合物。实际上薄膜是与块状物质一样的,它们可以是单晶态的,多晶态的或非晶态的。近年来,复合薄膜和功能材料薄膜取得了较大的发展。薄膜产品及镀膜技术在工业上有着非常广泛的应用,尤其是在电子元器件与材料工业领域中占有极其重要的地位。

薄膜制备

薄膜制备(镀膜)技术可以分为液相生长法、气相生成法、电镀法、离子注入法、氧化法、涂布法、扩散法等。其中气相生成法是比较受欢迎的,可分为物理气相沉积法(PVD镀膜),化学气相沉积法(CVD镀膜)和放电聚合法等。

物理气相沉积法包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜等技术,也就是以上所说的PVD镀膜技术,是基本的薄膜制备方法。这些方法都是要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度。因此,真空技术是这一项薄膜制作技术的基础前提条件,获得并保持所需的真空环境,是PVD镀膜技术的必要前提条件。

用以获取真空环境的真空系统有很多种类。在实际工作中,需根据自己的工作需求不同进行恰当的选择。目前典型的薄膜制备所用真空系统包括:获得真空的设备(真空泵),待抽空的容器(真空室),测量真空的器具(真空计)以及必要的管道,阀门和其它附属设备。