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真空溅射镀膜在磁记录媒体行业的应用-广东振华真空镀膜设备

光磁记录媒体主要包括磁记录媒体与光记录媒体两种,采用真空溅射镀膜工艺进行镀膜。其中,光记录媒体依照盘片的类别和功能不同,镀膜的要求也不同。

真空溅射镀膜设备

重复读写型盘片工艺最复杂,需要镀三层膜,分别为反射层、介电层和记录层;其余盘片则只需镀反射层或半反射层。

1、磁记录媒体真空溅射镀膜

磁记录媒体的溅射镀膜要求溅射靶材具低气体含量、有高纯度、细晶微结构、高磁穿透和使用率、均匀的金相、优异的电性与机械特性等。

2、光记录媒体真空溅射镀膜

光记录媒体的溅射镀膜要求溅射靶材具有良好的溅镀效率、薄膜特性、晶像均匀性、清净度和回收系统等特性。