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光学镀膜-广东振华真空镀膜设备

光学涂层通常被视为沉积在光学基板上的薄膜,其目的是改变或调整光的透射,反射吸收或偏振。薄膜涂层可以通过大多数形式的物理气相沉积(PVD)技术应用于光学组件,包括蒸发沉积(电阻和电子束),离子束溅射,原子层沉积以及磁控溅射沉积。所有这些都有独特的制备优势,具体取决于特定应用所选用的材料。

当一束光线照射到给定的表面时,该光束的一部分被反射回去,其中的一部分被吸收到材料结构中,而另一些透射过该材料。在某些情况下,这三者可以任意组合。调整相互牵制而产生的结果,或者是分别地,或者是综合地,可以造出各种光学涂层。光学系膜通常是通过将多层不同材料的薄膜沉积到光学组件上来实现的。可以交替镀制这些薄膜,以创造出许多组合。各层薄膜的成分,厚度,结构或所施加的连续层总数可以不同。光学涂层可以由多种不同材料薄膜组成,例如氧化物,金属(包括难溶材料,稀土金属),电介质或绝缘体,这些都能综合地调整光学膜的行为,具体通过涂层材料的折射率体现出来。可以使用不同的材料或不同材料的组合来改变在红外(IR)–较长波长,到紫外(UV)–较短波长(介于400 – 700纳米)之间的光谱范围内的折射率。折射率是多层膜系中的关键参数。

薄膜光学涂层通过在交替地沉积介电和金属材料,可以形成不同的性质以改变用于特定场合的光波的干涉。通过交替使用高折射率材料和低折射率材料,可以形成所需的干涉效果。通常可以通过如何以及在多大程度上对光进行改变来进行分类。抗反射(AR)涂层用于抑制来自两种不同介质(例如空气和玻璃)界面的有害反射。高反射(HR)涂层(例如反射镜)用于增加给定表面的反射率。中间的情况是反射涂层透射特定的光而反射其余的光。