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钡和铈的正确存储程序-广东振华真空镀膜设备

最近,一位客户要求提供有关钡和铈的正确存储步骤的信息:

不幸的是,钡和铈在室温下都与环境高度反应。钡的氧化态为+2,并容易与空气中的氧气反应。如果不打算以单质形式(例如溅射靶)生产的靶材后的短时间内将其溅射,则应将其存储在油(矿物油)或真空分离器中。钡也会与水反应生成氢气,因此应注意使其远离水或潮湿的空气。

铈在空气中的反应性也很高。它具有高度的自燃性,会引起火灾,尤其是小颗粒,例如从腔室壁或真空室中的百叶窗组件刮下的颗粒。清洁系统时应小心。将铝箔放在腔室中那些可能会杂散铈原子沉积的所有区域中(远离基片本身),然后在每次运行后处置铝箔通常是避免任何意外着火的好主意。铈在空气中形成CeO₂时反应缓慢,因此,与钡一样,在长间隔内以及两次运行之间存储铈溅射靶材时也需要采取预防措施。