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适用于“大功率脉冲磁控溅射”的碳靶-广东振华真空镀膜设备

最近,一位客户要求使用适合“高功率脉冲磁控溅射”的碳靶材。

碳溅射靶材的形式很多,从石墨到无定形再到到分解成玻璃状,但实际上没有一种能适合长时间维持高功率密度的等离子体。所使用的脉冲电源将有助于减轻与碳结构相关的不良电导率问题,但由于在与碳有关的原子键断裂期间离子和原子之间的放热动量转移,因此无助于消散靶表面产生的热量。溅射工艺。尽管玻璃碳和热解碳的导电性都略高一些(在电和热方面)。