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使用射频功率发生器溅射氮化硼靶时维持等离子体-广东振华真空镀膜设备

最近,有一个客户问我们为什么他试图用射频电源溅射新的氮化硼靶时无法维持等离子体。

当使用射频发生器和相关的调谐网络激起等离子体以溅射氮化硼靶材时,有时必须暂时将工作气体的初始分压提高到正常工作范围以上。通常,建议在2-5毫托范围内操作,以零反射功率进行射频沉积。但首先要点燃等离子体,尤其是对于新的未调试过的靶材,可能需要增加工作气体的流速(或通过减小可变孔板的开度来减少泵的抽速)以增加腔室内的分压,直到等离子点火。这可能在25到150甚至高达200毫托的范围内。

当等离子体最初在较高的分压下点燃时,反射功率可能会很高。这是正常现象,没有任何后果。无需调整调谐网络中的阻抗来尝试消除此时的反射功率。但是,一旦等离子在正常的工作压力下保持时,就必须使反射功率尽可能接近绝对零。使用自动调谐系统时,请确保调谐网络不会落在鞍点上。如果反射功率保持在几瓦以上,请尝试手动向上或向下调整阻抗,以在任一方向上,观察到小幅增加后反射功率是否下降至较低点。如果无法维持低的反射功率,应检查电流是否保持良好的接地。