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PVD离子镀是什么原理-广东振华真空镀膜设备

PVD离子镀由D. M. Mattox于1963年最早提出并付诸实践。此技术的原理是在真空条件下,利用气体放电使被蒸发物质或气体离化,在被蒸发物质离子或气体离子轰击作用的同时,把蒸发物或其他反应物镀在基片上的技术。

PVD离子镀

由于PVD离子镀是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的化学反应和扩散作用。然而,整个工件,特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广,受到的局限性则较小。通常,各种金属、合金以及某些绝缘材料、合成材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属,也可在非金属上镀金属或非金属,甚至可镀石英、橡胶、塑料、陶瓷等。

根据膜层粒子的获得方式,离子镀可分为溅射型PVD离子镀和蒸发型PVD离子镀,其中蒸发型离子镀根据放电原理不同又可分为直流热丝弧离子镀、二级型离子镀、空心阴极离子镀以及热阴极离子镀等。

直流二级离子镀,是稳定的辉光放电;空心阴极离子镀与热丝弧离子镀,是热弧光放电,产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到很高的温度,导致核外电子的热发射;阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种PVD离子镀的放电类型均不相同,它采用的是冷弧光放电。