磁控溅射是一种先进的物理镀膜技术,它利用磁场来控制电子的运动轨迹,从而提高电子的电离概率和利用电子能量。这种技术使得靶材的溅射更有效地利用正离子对靶材的轰击,同时由于受到正交电磁场束缚的电子只能在能量耗尽时才能落到基片上,因此磁控溅射具有“高速”“低温”两大特点。与直流二极溅射相比,磁控溅射只增加了正交电磁场对电子的束缚效应。而正交电磁场的建立、靶面磁场B值的大小及其分布,特别是平行于靶表面的磁场分量B,是磁控溅射中一个非常重要的参数。在实际应用中,这些参数需要根据具体的设备和工艺需求进行精确控制和调整,以保证镀膜的质量和效果。 由于束缚效应的作用,磁控溅射的放电电压和气压都远低于直流二级溅射。当具有一定能量的离子入射到靶材表面时,入射离子与靶材中的原子和电子相互作用,可以引起靶材表面的粒子发射,包括溅射原子或分子、二次电子发射、正负离子发射、吸附杂质解吸和分解、光子辐射等,并在靶材表面产生一系列的物理化学效应,包括表面加热、表面清洗、表面刻蚀、表面物质的化学反应或分解等。此外,一部分人射离子进入靶材的表面层,成为注入离子,在表面层中产生一系列的现象,包括级联碰撞、晶格损伤及晶态与无定型态的相互转化、亚稳态的形成和退火、由表面物质传输而引起的表面形貌变化、组分及组织结构变化等。

与传统的真空蒸发镀膜相比,溅射镀膜有以下特点。 (1)溅射镀膜是物理镀膜方法,其基本原理是利用辉光放电产生的高速离子轰击靶材表面,使靶材中的原子或分子逸出并沉积到被镀工件的表面,形成薄膜。而真空蒸发镀膜则利用电阻加热法将靶材加热至熔化,然后蒸发并沉积到被镀工件的表面。 (2)溅射镀膜的沉积粒子大多呈原子状态,被称为溅射原子。而真空蒸发镀膜则是通过加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,然后沉降到基片表面形成薄膜。 (3)溅射镀膜的粒子带一定的动能,因此它们可以沿一定方向射向基体表面,并在基体表面形成镀层。而真空蒸发镀膜的蒸发粒子一般没有这个特性。

随着智能汽车技术的不断发展，智能后视镜作为汽车人机交互的重要组成部分，逐渐成为行业的标配。从传统的单纯反射镜到如今集成多种功能的智能后视镜，其作用不仅仅局限于提供驾驶视野的扩展，更是智能驾驶、安全监控、车载信息显示等系统的核心终端。汽车智能后视镜的应用场景对光学镀膜技术提出了极高要求。

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