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dpc陶瓷基板连续式镀膜生产线-小图

提升压敏电阻可靠性的关键一步：真空镀膜工艺解析

钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

TGV镀膜生产线-小图

攻克30微米微孔镀膜难题——振华真空TGV深孔镀膜解决方案

随着先进封装技术的发展，TGV（Through Glass Via）正逐步成为玻璃基板互连的重要方案。凭借低介电损耗、热稳定性好、加工精度高、绝缘性能强等优势，TGV在光通信、MEMS、传感器及高速互连等领域表现突出，并正加速渗透到更多高端应用场景中。

预热海报730

8月13-15日，上海CIAIE内饰件展丨【N2-2A230】我们不见不散！

磁控溅射光学镀膜设备1916-小图

单批产能翻倍，振华真空GFM1916推动HUD光学镀膜提效稳产

ZCL1417大图

多膜层一次成型，振华ZCL1417推动内饰件升级

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