始于1992年,我们专注于真空镀膜领域

新闻资讯

新闻资讯

news

销售咨询

Sales consultant

服务热线

400-900-9105

最好真空铸造钌溅射靶或将其烧结-广东振华真空镀膜设备

真空铸造和粉末冶金工艺生产的材料其物理性能之间存在显著差异。如果真空铸造材料具有延展性,并且可以在轧机或类似形式的机械加工操作中进行机械压缩,则通常可以接近理论密度的100%。但是,不幸的是钌并不具有延展性。从本质上来说,它很脆。这意味着我们将不得不提供一种“铸态”材料,该材料可能包含一些空隙,具有大的不均等晶粒,格里菲斯微裂纹,滑移面,位错和淬火腔。

由粉末冶金技术生产的溅射靶材是由均质且细粒的高纯度亚微米粉末在等静热压机(HIP)中固化。取决于所烧结的材料,最终产品也可以接近理论密度。但是,钌非常脆,在极高的温度和压力下烧结时,容易破裂或剥落。这限制了可以施加到钌粉末上的能量,并且对可获得的密度设置了上限。钌的典型密度为85%。钌的正常HIP循环将产生接近最终的形状,然后可以将其用金刚石打磨成最终尺寸。任何被磨掉的残留材料通常会在研磨过程中损失,

根据在沉积过程中基于过程控制可能需要的特定要求,Plasmaterials通常建议使用粉末冶金过程来生产烧结的钌溅射靶,然后将其粘合到铜背板上,以便在阴极组件中也提供机械稳定性,并具有更好的导电性和导热性。