热丝弧离子镀膜的工艺过程

文章作者:广东振华科技
阅读:1126
发布时间:2023-09-28
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1.引燃热丝弧放电


将钽丝(钨丝)加热至 2300K 以上,钽丝呈白炽状态,可发射大量热电子流,向热丝弧枪室通入氩气,热电子流把氩气电离再次增加等离子体电子流密度。从热丝弧枪室向阳极发射出高密度电子流弧柱,弧电压为 50V 左右,弧电流为150~200A。

热丝CVD大图.jpg

2.加热工工件


将弧电源正极接工件,弧光电子流射向工件,轰击加热工件


3.清洗工件


将弧电源正极接坩埚周围的辅助阳极,工件接偏压电源负极。热丝弧发射的电子流在射向辅助阳极的过程中电离氩气,用离子轰击清洗工件。


4.镀 TiN薄膜


将弧电源正极接坩埚,通人氮气。弧光电子流射向坩埚内的金属锭上,把金属加热蒸发。金属蒸气原子与通入的氮气都被弧光电子流电离,得到高密度金属离子、氮离子、金属活性原子、氮的活性原子和活性基团,它们到达工件表面化合反应生成 TiN 薄膜。


5.调整线圈电流


在工件的加热、清洗和镀膜过中,需要不断调整电磁线圈的电流来改变电的旋转半径。

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