真空镀膜技术在汽车行业中应用广泛，它能显著提升汽车零部件的耐磨、耐腐蚀和美观度。通过真空环境下的物理或化学沉积，为车灯、内饰件、显示屏及发动机部件等镀上金属、陶瓷或有机薄膜，增强硬度、提高反射率、延长使用寿命，同时赋予汽车独特的光泽与质感，满足消费者对品质与美观的双重追求。振华真空作为一家真空镀膜设备制造服务商，为汽车行业提供了一系列高效、优质的镀膜解决方案，助力汽车行业发展。 1.汽车中控屏 汽车中控屏镀膜能增强表面的耐磨性，有效抵抗日常使用中的划痕和磨损；优化显示效果，减少反光和眩光，提高屏幕在各种光照条件下的清晰度和可读性；同时增强抗腐蚀性，镀膜层隔绝外部腐蚀物质，延长中控屏的使用寿命。然而当前镀膜技术存在质量不稳定、可见光透过率低、硬度不足、生产效率低等问题，制约中控屏性能提升，影响用户体验、美观度、使用寿命及市场竞争力。振华SOM-2550连续式磁控溅射光学镀膜设备可显著提升镀膜工艺稳定性和品质，改善中控屏实用性能，同时大幅提升生产效率，解决行业难题。 设备推荐： SOM-2550连续式磁控溅射镀光学膜设备 设备优势： 超硬AR +AF硬度高达9H 可见光透过率最高可达99% 自动化程度高、装载量大、膜层性能优异 2.车载显示屏 车载显示屏镀AR膜能显著提升透光性，减少眩光与反光，增强视觉体验；还具备防污易清洁、保护屏幕等特性，全面提升车载显示屏的性能与用户体验。 设备推荐： 大型立式超多层光学镀膜生产线 设备优势自动化程度高：机械手衔接上下工序，实现流水线作业 产能大，能耗低：产量最高可达50㎡/h 膜层性能优越：多重精密光学膜叠加，最多可达14层，镀膜重复性好

SOM-2550连续式磁控溅射光学镀膜设备：破解汽车中控屏镀膜难题，优越性能与高效生产并重 随着汽车科技的不断进步，汽车中控屏的市场需求持续增长。如今的汽车中控屏已经不再是简单的信息显示终端，而是融合了多媒体娱乐、导航、车辆控制、智能互联等多种功能于一体。消费者对于中控屏的要求也越来越高，不仅期望其具备高分辨率、鲜艳的色彩表现和快速的响应速度，还要求在不同的光照条件下都能清晰可见，并且具有良好的耐用性和抗划伤性能。 汽车中控屏市场发展充满了机遇，但同时也面临着不少挑战。其性能优劣，与镀膜技术息息相关。镀膜技术是一种表面处理技术，用于提升材料性能，增强硬度、抗腐蚀性或光学特性。目前汽车中控屏镀膜技术仍存在一些痛点，制约着中控屏性能的进一步提升。如镀膜质量不稳定，膜层易脱落、起泡、变色，影响外观和性能；可见光透过率低，屏幕显示模糊，影响用户体验；硬度不足，易出现划痕，降低美观度和使用寿命；生产效率低，增加成本、延长交货周期，影响市场竞争力。 针对汽车中控屏在实用性和生产效率方面遇到的挑战，振华SOM-2550连续式磁控溅射光学镀膜设备应运而生，旨在解决行业难题，为汽车中控屏市场提供了高效、稳定的镀膜解决方案。该方案不仅显著提高了镀膜工艺的稳定性和品质，而且从本质上改善了中控屏幕的实用性能，同时大幅提升了生产效率。

PVD（Physical Vapor Deposition）即物理气相沉积，是一种通过物理方法在基材表面沉积薄膜的电镀工艺。PVD镀膜工艺流程通常包括以下步骤： 一、前处理 清洗工件：在进行PVD镀膜前，需要对工件进行彻底的清洗，以去除表面的杂质、油脂、氧化物等有害物质，确保工件表面平整干净。清洗时，可以接通直流电源，利用氩气进行辉光放电，产生氩离子轰击工件表面，使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出。 预处理：清洗后的工件可能还需要经过进一步的预处理，如机械打磨、化学腐蚀、激光处理等，以提高电镀膜的附着力和均匀度。 二、镀膜准备 蒸发源装填：在PVD镀膜过程中，需要使用蒸发源来提供材料原子。蒸发源装填是将材料蒸发源放置在特定的位置，以便在镀膜过程中通过加热使其蒸发。 抽真空：将真空室内的残余气体抽走，以创造镀膜所需的真空环境条件。 加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放，进一步提高真空度。 压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率，确保真空环境条件满足镀膜标准。 三、镀膜过程 镀料的气化：通入交流电后，使镀料蒸发气化。 镀料离子的迁移：气化后的原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场的作用，高速冲向工件。 镀料原子、分子或离子在基体上沉积：当工件表面上的蒸发料离子数量超过溅失离子的数量时，这些离子将逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。如果是镀离子镀，蒸发料粒子电离后具有高能量，高速轰击工件时，不仅沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层。 四、后处理 冷却出炉：镀膜完成后，需要冷却工件以避免氧化变色。冷却过程中，可以充入氮气或氦气等冷却气体，以提高降温速度。 抛光与清洗：对镀膜后的工件进行抛光和清洗，以去除表面污染物，提高薄膜质量。

蒸发镀膜与磁控溅射是两种常见的物理气相沉积（PVD）技术，它们在原理、应用及特点上存在显著的区别。 一、原理区别 蒸发镀膜： 蒸发镀膜通过加热固态材料至高温，使其蒸发成气态，然后在真空环境中扩散，最后在基片表面凝结形成薄膜。 常用的蒸发源包括电阻加热、电子束加热和激光加热。 磁控溅射： 磁控溅射则是利用高能离子（通常是氩离子）轰击靶材表面，使靶材原子溅射出来，并在基片表面沉积形成薄膜。 在溅射过程中，电子在电场的作用下加速飞向基片，与氩原子碰撞电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子。同时，磁场束缚和延长电子的运动路径，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。 二、应用及特点区别 蒸发镀膜： 优点：蒸发镀膜技术成熟度高，成膜速率快，成膜纯度高。 缺点：薄膜附着力一般，且对于高熔点材料，蒸发镀膜可能面临加热温度限制的问题。 应用领域：蒸发镀膜广泛应用于光学反射镜、滤光片、集成电路和太阳能电池等领域。 磁控溅射： 优点：磁控溅射制备的薄膜附着力强，重复性好，且由于磁场可控特性，膜厚也可控。 缺点：薄膜中间可能较厚，两边较薄，且对于磁性靶材，磁控溅射的效果可能受到影响。 应用领域：磁控溅射在制备高质量、高性能的薄膜材料方面具有重要应用，如光学薄膜、磁性薄膜、硬质薄膜等。