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钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

真空溅射镀膜的复兴与发展

所谓溅就是用能粒子(通常用性气体的正离子) 去击固体(以下称靶材)表面，从而引起靶材表面上的原子（或分子）从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫(Grove) 于 1842 年在研究阴极腐蚀问题实验时，阴极材料被迁移到真空管壁上而发现的。

磁控溅射镀膜的特点

磁控溅射镀膜与其他镀膜技术相比，其显著特征为：工作参数有大的动态调节范围镀膜沉积速度和厚度(镀膜区域的状态) 容易控制，对磁控靶的几何形状没有设计上的限制，以保证镀膜的均匀性

刀具行业中薄膜的应用

随着新型材料不断涌现，碳纤维复合材料、超硬陶瓷等应用比重不断增加，采用传统硬质合金刀具和高速钢刀具加工新型材料会出现高磨损、加工效率低等问题。

薄膜的光学特征

以金属薄膜为例，其光学特性表现为：1.势透射率决定于金属膜的光学常数和出射介质的光学导纳，而与人射介质无关

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