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钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

多弧镀膜机

信息显示薄膜与离子镀膜技术

在信息显示器中，除了 TFT-LCD 与 OLED 中的薄膜外，还包括显示面板中的配线电极薄膜及透明像素电极薄膜等。镀膜工艺是 TFT-LCD 与 OLED 显示器的核心工艺，随着信息显示技术的不断进步，信息显示领域的薄膜的性能要求越来越严格，需要精确控制均匀性、厚度、表面粗糙度、电阻率及介电常数等参数。

蒸发镀膜机

真空蒸发镀膜层的生长规律

蒸发镀膜时，膜层的形核、长大规律是各种离子镀膜技术的基础。

增强型辉光放电离子镀膜技术的共同特点

由于增设了提高离化率的装置，提高了放电电流密度，偏压降低为 0.5~1kV. 减少了高能离子的过度轰击造成的反溅射和对工件表面的损伤效应。

磁控溅射镀膜机

柱状磁控溅射靶的优点

1) 比平面靶的靶材利用率高。在镀膜过程中，无论是旋磁型还是旋靶管型柱状磁控溅射靶，靶管表面各个部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射，靶材可以受到均匀的溅射刻蚀，靶材利用率高。靶材利用率高达80%~90%。

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