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水性漆替代后，谁来解决内饰件掉漆问题？

dpc陶瓷基板连续式镀膜生产线-小图

提升压敏电阻可靠性的关键一步：真空镀膜工艺解析

钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

蒸发镀设备

真空蒸镀的简介

真空蒸发镀膜（简称蒸镀）是在真空环境下，用蒸发器加热膜材使之气化，膜材蒸发的粒子流直接射向基片并在基片上沉积，形成固态薄膜的技术。

阴极电弧离子镀膜机

真空阴极电弧离子镀概述

真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源) 时，则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术，它与空心阴极放电的热电子电弧不同，它的电弧形式是在冷阴极表面上形成阴极电弧斑点。

离子镀膜机

离子镀的类型

离子镀膜层的沉积离子来源于各种类型的蒸发源或溅射源，从离子来源的角度可分成蒸发离子镀和溅射离子镀两大类

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金属薄膜的电导特征

薄膜的电子性质与块状材料的电子性质有明显的差异，某些在薄膜上所显示出来的物理效应，在块状材料上是很难找到的。

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