行业资讯 - 广东振华科技

行业资讯振华公告

首页新闻资讯行业资讯

行业资讯

水性漆替代后，谁来解决内饰件掉漆问题？

dpc陶瓷基板连续式镀膜生产线-小图

提升压敏电阻可靠性的关键一步：真空镀膜工艺解析

钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

多弧镀膜机

用弧光放电源增强磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜在辉光放电中进行，放电的电流密度低，镀膜室内的等离子体密度低，使得磁控溅射技术有膜-基结合力低、金属离化率低、沉积速率低等缺点在磁控溅射镀膜机中增设弧光放电装置，可以利用弧光放电产生的弧光等离子体中的高密度电子流对工件进行清洗，还可以参与镀膜和进行辅助沉积。

离子镀膜机

低温离子化学热处理

1.传统化学热处理温度常见的传统化学热处理工艺包括渗碳和渗氮，工艺温度依据Fe-C 相图、Fe-N相图确定。渗碳温度为930℃左右，渗氮温度为 560℃左右。离子渗碳和离子渗氮的温度也基本控制在这个温度范围。

蒸发镀膜机

真空蒸发镀膜技术特点

1、真空蒸发镀膜设备过程包括膜料物质的蒸发、蒸气原子在高真空中传输和蒸气原子在工件表面形核、成长为成膜的过程。

等离子体表面改性的特点

高能态的等离子体对高分子材料进行轰击、照射，可以打断高分子材料的分子链、形成活性基团、增加表面能、产生刻蚀等。等离子体表面处理对本体材料内部结构、性能不产生影响，只是表面性能发生很大改变。

首页上一页 47 48 49 50 51 52 53 下一页尾页