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PCVD镀膜有哪些类型-广东振华真空镀膜设备

等离子体化学气相沉积(PCVD)在电力的激发输入方式上有外部、内部感应耦合方式两种;从生产过程作分类的话,可分为批量式的、连续式以及半连续式等几类,下面分别做PCVD镀膜的类别介绍:

1、内部感应耦合方式

(1)半连续式

这种方式类似于离子镀膜、溅射镀膜等利用等离子体的工艺,它在PCVD装置内部通入大气时,器壁就会对水蒸气等杂质进行吸附,在等离子体作用之下,这些吸附杂质会沾污、解吸等离子体,导致产生对膜层质量较大的负面影响。所以PCVD真空设备更易受到污染,因此非常有必要使反应器处于较稳定高真空状态。

(2)批量式

反应器中以平行相对的方式布置尺寸为ø650mm的电极,用反应器外面的加热器加热基材至350ºC的高温,利用磁旋转装置进行旋转。基材与高频电极间约有50mm的距离,在基板中心有反应气体向四周流动,由基材下面的四个排气口排走废气。由50RHz的高频电源激发等离子体,以500W的功率维持放电。

2、外部感应耦合方式

(1)连续式

是由装料室、卸料室、沉积室等三个部分构成的PCVD连续性生产设备。其中,五个反应器组成沉积室,采用外部感应耦合方法进行等离子激发。自动化生产可通过对工艺过程的控制来实现。该类型设备的优点是,反应器有较集中的功率,使用Si气体浓度较低就能获得沉积速度较高,而且安全高。

(2)批量式

在石英管的外侧绕上高频线圈,接上供气系统抽气,系统就组成了反应器。高频线圈从外部把高频电力输给反应器中的气体,产生等离子体。

PCVD镀膜装置在制备非晶硅膜或SiN᙮膜中,薄膜的电学性能、内应力等性能很大程度上均取决于氢含量的多少,以此,在薄膜沉积过程当中需要注意避免装置被污染。