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高真空分子束外延镀膜设备有哪些优势-广东振华真空镀膜设备

在20世纪50年代,我国开始了真空镀膜设备的研发,当时制造了各种蒸镀机,在光学领域的发展相当快速,直至20世纪70年代,由于我国经济迅猛发展,使得各类真空镀膜装置的需求量不断增大,这项技术得到进一步的发展。发展至今的镀膜工艺种类繁多,而分子束外延镀膜设备则是一种类似于蒸镀的镀膜装置,该镀膜技术称为MBE(Molecular beam epitaxy)。

该设备主要是由全无油的清洁超高真空系统、监测分析仪器、外延生长和控制系统等部分组成。分子束外延系统主体结构有:样品架、真空室、四极质谱计、BA规、钛升华泵、前级真空排气系统、离子泵、氟橡胶插板阀等。

该设备真空镀膜室的设计优势:由不锈钢材料制成的圆筒,在圆筒周围开大小不同的20余个用来配置各种表面分基材传递结构、基材架、分子束源、析仪器及观察窗等结构的法兰。真空镀膜室直径与升华泵的直径相同,选用法兰连接,便于升华泵充分发挥抽速。

该设备整体采用的卧式设计优势:便于真空镀膜室布局,使升华泵的法兰和真空室能够准确相接,所以将真空机组和真空镀膜室分成两个独立的支架,然后通过轨道准确地对中接上这两部分,使密封得到保证,同时节省了真空镀膜室开启时所需的起重设备。

现今,一种独立束源的分子束外延镀膜设备拥有较大的优势,因其本身具有两个特点。首先是它独有的分子束源设计:是由六个独立分子束炉组成,分别装在法兰上,每个独立分子束炉都有快门连同加热引线、测温热电偶等集中装在一个小法兰上,因而每个独立分子束炉可方便地进行取换,相互之间没有影响;其次是它的基材传递设计:基材传递结构是独立的,便于快速地取换样品,使工作效率进一步提高。