始于1992年,我们专注于真空镀膜领域

新闻资讯

新闻资讯

news

销售咨询

Sales consultant

服务热线

400-900-9105

真空离子刻蚀有哪些类型-广东振华真空镀膜设备

真空离子刻蚀源自1965年,国外采用离子束技术,刻蚀出0.25μm­的超精细集成电路线条,自此该技术得到迅速发展和广泛应用。国内生产的离子束刻蚀设备,已在动压气体轴承变宽线条的刻蚀加工、光栅、红外器件、声表面波沟槽栅等固体器件的刻蚀加工当中得到广泛的应用。离子束刻蚀技术有三类,分别是反应刻蚀、溅射刻蚀以及混合刻蚀。

1、反应刻蚀

通过活性粒子的化学作用来刻蚀工件表面,包括两种类型:

(1)化学活性游离根或非饱和键化合物刻蚀

选择通过化学活性游离根或非饱和键化合物进行刻蚀,则置于真空室中的气体的电弧区与工件是分开的。自电弧区里面引出来的活性分子或中性游离根跟工件发生化学反应,以此完成刻蚀工件的效果。

(2)等离子体反应刻蚀

将工件置于蒸气形成的等离子体区或化学活性气体之中,以被刻蚀材料与电子和离子的诱导或强化刻蚀剂之间产生的化学效应,导致挥发性产物的产生,再将它从真空设备里面排出,以此完成对工件的刻蚀。

2、溅射刻蚀

以荷能惰性离子为基础,对工件表面进行物理溅射的一种刻蚀技术,它包括两种类型:

(1)离子束刻蚀

于离子源或枪产生的离子束,通过聚焦、偏转等流程,然后引向被刻蚀工件。

(2)等离子体刻蚀

将工件置于负极,通过高频或直流形成的惰性气体等离子体直接作用于工件。

3、混合刻蚀

混合刻蚀是既包括化学刻蚀又有物理溅射作用的刻蚀方法。可分为以下三种方法:

(1)离子束反应刻蚀

将化学活性离子自离子源中引出,使其与工件相互发生作用,同样的,离子束可偏转、聚焦和进行调节。

(2)反应溅射刻蚀

类似于等离子体反应刻蚀,同样在活性气体形成的等离子体区内置放工件。但又有点不同,它的离子能量大于100eV,相对等离子体反应刻蚀来说较高些,因而增强了溅射作用,既有离子溅射刻蚀作用又有反应刻蚀作用。

(3)离子束强化反应刻蚀

惰性、活性气体离子分别通过各自的通道,同时到达被刻蚀工件的表面,但在此过程当中两种气体离子之间互不影响。特点是可以分开来准确控制与监测各自的参数。

真空离子刻蚀作为一种超精细加工技术,广泛地用于集成光学、电荷耦合器件、计量光栅、磁泡储存器、声表面波器件、动压气体轴承、超大规模集成电路等刻蚀精细沟槽或特殊图形,也可抛光、减薄各种材料以及高精度表面的清洗。