始于1992年,我们专注于真空镀膜领域

新闻资讯

新闻资讯

news

销售咨询

Sales consultant

服务热线

400-900-9105

磁控溅射镀膜设备有哪些类型-广东振华真空镀膜设备

磁控溅射镀膜设备的磁控溅射源可以按照其磁场形成方式或是按照共结构型式来分类。按磁场形成的方式可以分为电磁型溅射源和永磁型溅射源。

磁控溅射镀膜设备

永磁型溅射源的优点有:构造简单、造价便宜,磁场分布可以调节,磁场均匀区,且可以做得较大。

其缺点是:磁场较弱,而且磁场大小无法变化。由于不管什么时候磁控溅射镀膜设备的靶材总有磁场存在,所以较容易使铁磁性杂质或碎片吸在靶材表面,从而形成“磁性污染”。

一般来说,工业用的磁控溅射镀膜设备,大都是采用永磁型溅射源。但如果要求在溅射过程中经常调整磁场的大小以及靶材需要用铁磁材料来制造时,就应当考虑采用电磁型溅射源。

按照结构型式来分类时,电磁型溅射源可分为:实心柱状磁控靶和空心柱状磁控靶,溅射枪和S-枪,平面磁控溅射靶等等。目前来看,柱状磁拉溅射靶和平面磁控溅射靶的应用相对比较多。