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什么是真空离子镀膜技术-广东振华真空镀膜设备

1、真空离子镀膜定义

真空离子镀膜就是在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸镀在基片上。

多弧真空离子镀膜机

离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合在一起。

2、真空离子镀膜特点

(1)镀层附着性好,膜层不易脱落;

(2)绕镀性好,改善了表面的覆盖度;

(3)镀层质量好;

(4)沉积速率高,成膜速度快;

(5)镀膜所适用的基体材料与膜材范围广。

3、真空离子镀膜原理

真空离子镀膜是真空蒸发和真空溅射镀膜结合的一种镀膜技术。离子镀的过程是在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物沉积在被镀基片表面的过程。