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多弧离子镀设备稳定性有哪些影响因素-广东振华真空镀膜设备

真空多弧离子镀设备中阴极电弧靶的放电一般为60-120A或更高的工作电流,约20V的工作电压,在靶面的阴极弧斑上有集中的电弧电流,其中斑点占很小面积,有很高的电流密度。在无磁场外加的情况下,阴极弧斑在靶面上是无规则运动的,其可达每秒几米的运动速度,由于这种运动是无规则的,若斑点移到蒸发面以外,可能致使灭弧、损坏装置及污染离子镀膜层。如何使设备的蒸发源/电弧靶稳定工作,提高蒸发源/电弧靶的工作性能,对提高真空镀膜设备的整机水平,提高真空离子镀膜膜层质量是极为重要的。

多弧离子镀设备

对多弧离子镀设备的靶真空电弧的稳定性问题。许多科技工作者已进行了大量的试验研究工作,发表过许多论文、提出了一些提高电弧燃烧稳定性办法。H.Wroe建议采用磁场限制阴极弧斑的运动;L.P.Sablev曾提出采用间隙屏蔽和采用一些反馈机构来提高电弧的稳定性;C.F.Morrison.Jr.则利用限弧环限制弧斑移离蒸发表面的办法来维持电弧的正常燃烧。

通过充足的实验研究结果发现,多弧离子镀设备的靶电弧放电的稳定性与许多因案有关。最显著的影响效果是磁场对离子镀电弧燃烧稳定性的影响;同时阴极表面的清洁程度、几何形状及表面状态、阴极靶面的几何尺寸、弧电流的大小、阴极靶面的表面温度、真空镀膜室内真空度及环境气氛种类等对多弧靶电弧燃烧的稳定性都有不同程度的影响。