面向 HUD 的高一致性光学镀膜解决方案

文章作者:振华真空
阅读:16
发布时间:2025-12-29
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一.应用

随着智能座舱与智能驾驶的快速发展,HUD 显示系统及车载玻璃盖板对光学镀膜提出更高要求。高可见光反射率、膜层稳定性及批量一致性,已成为核心指标。磁控溅射光学镀膜工艺,正逐步成为 HUD 与高端显示玻璃的主流技术路线。


二.客户痛点

产能与装载受限:传统设备单炉装载量有限,难以匹配规模化量产需求。

膜层性能一致性要求高:HUD 对反射率、折射率及膜厚控制极为严格,工艺波动容忍度低。

多功能膜层集成难:多工序切换频繁,影响效率与良率。


三.振华真空解决方案

磁控溅射光学镀膜设备-1916.jpg

振华真空推出 GFM1916 磁控溅射光学镀膜设备,通过高自动化磁控溅射系统,结合离子源辅助与精准膜厚控制技术,实现 HUD 及玻璃盖板用高性能光学膜层的稳定量产,兼顾高产能、高一致性与工艺灵活性。

设备优点

  • 全自动控制,操作高效稳定

全流程自动化控制,操作简单,工艺重复性好,适合连续量产。

  • 高载量 · 大产能设计

圆筒式工件架结构,单炉装载量为传统电子束蒸发设备的 2 倍;支持多种工件形态,应用更灵活。

  • 卓越的膜层性能

PVD + CVD 复合镀膜系统及离子源辅助技术,使膜层致密、折射率高且稳定,附着力强;支持一次性完成铝膜、介质膜及 AF 膜沉积。

  • 涂层精准控制,满足 HUD 严苛标准

配备晶控监测系统,实现膜厚精确控制;SPEEDFLO 闭环与全自动控制系统显著提升 SiO₂ 沉积效率,可见光反射率稳定达到 90% 以上,满足 HUD 应用要求。

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