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溅射膜有哪些应用-广东振华真空镀膜设备

溅射镀膜技术相较于其它镀膜技术,其膜质性能有很大的优势:它拥有更高的密度、较高的折射率、更高的硬度、更低的膜表面粗糙度。对于溅射膜的应用类型,一般是通过其薄膜功能进行分类的。通常可为分电气、磁学、光学、机械、化学和装饰等几大类,接下来了解该镀膜技术的应用分类及其对应的材料选择:

1、IC半导体元件的应用:

用于电极、引线,所用材料为:铝及铝合金、Ti、Pt、Au、Mo-Si、TiW;

用于镀制绝缘涂层、表面钝化膜,所用材料为:SiO₂、Si₃N₄、Al₂O₃。

2、显示元件的应用:

用于镀制透明导电膜,所用材料为:In₂O₃、SnO₂;

用于镀制光色膜,所用材料为:WO₃;

用于镀制绝缘涂层、表面钝化膜,所用材料为:SiO₂。

3、磁记录的应用:

用于镀制软磁性膜,所用材料为:Fe-Ni、Fe-Si-Al、Ni-Fe-Mo、Mn-Zn、Ni-Zn;

用于镀制电硬磁性膜,所用材料为:Y-Fe₂O₃、Co、Co-Cr、Mn-Bi、Mn-AI-Ge;

用于镀制磁头缝隙材料,绝缘层,所用材料为:Cr、SiO₂、玻璃;

用于特殊材料中,所用材料为:过渡金属和稀土类的合金。

4、约瑟夫森元件的应用:

用于镀制超导膜,所用材料为:Nb、Nb-Ge;

用于镀制绝缘膜,所用材料为:SiO₂。

5、光电子学的应用:

用于光IC镀膜,所用材料为各种玻璃。

6、其它电子元件的应用:

用于镀制电阻薄膜,所用材料为:Ta、Ta-N、Ta-Si、Ni-Cr;

用于印刷机薄膜热写头,所用材料为:Ta-N、SiO₂、Ni-Cr、Au、Ta₂O₅、SiC、Ta-Si、Ta-SiO₂、Cr-SiO₂;

用于镀制压电薄膜,所用材料为:ZnO、PZT、BaTiO₃、LiNbO₃;

用于镀制电极引线,所用材料为:Al、Cr、Au、Ni-Cr、Pb、Cu。

7、太阳能的应用:

用于太阳能电池镀膜,所用材料为:Si、Ag、Ti、In₂O₃;

用于镀制选择吸收膜,所用材料为:金属碳化物;

用于镀制选择反射膜,所用材料为:In₂O₃。

8、光学的应用

用于镀制反射镜镀膜,所用材料为:Al、Ag、Cu、Au;

用于镀制光栅镀膜,所用材料为:Cr。

9、机械、化学的应用:

用于镀制润滑膜,所用材料为:MoS₂、Ag、Cu、Au、Pb、Cu-Au、Pb-Sn;

用于镀制耐磨损膜,所用材料为:Cr、Pt、Ta、CrN、CrC、TiN、TiC、HfN;

用于镀制耐腐蚀膜,所用材料为:Cr、Ta、CrN、CrC、TiN、TiC等;

用于镀制耐热膜,所用材料为:Al、W、Ti、Ta、Mo、Co-Cr-Al系合金。

10、塑料工业的应用:

用于镀制塑料装饰、硬化膜,所用材料为:Cr、Al、Ag、TiN。

随着现今科学技术的快速发展,溅射膜在诸多领域当中的应用均成为可能。他们之中有一些是:改善了建筑玻璃上的低辐射率和日光控制的膜层、大型玻璃板上的溅射抗反射膜层、平板显示器膜层、太阳能电池用透明导电膜层、零件和工具的摩擦膜层、传感器和精密光学用膜层等。如今,使用溅镀工艺已经成为镀膜行业中的一种标配。