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真空镀膜机的基片清洗有哪些方法-广东振华真空镀膜设备

真空镀膜机的基片表面洁净度,将对镀层的黏附强度产生直接的影响。在真空镀膜工艺过程中,其基片表面的主要污染源有:设备零部件表面吸收、吸附的气体;设备零部件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;设备零部件在加工、储运等工艺过程中粘附的汗渍、油脂、抛光膏、机油及润滑油等污物;设备零部件在加工、传输、包装过程中及放置时所粘附的各种粉尘等。当然,这些污染物大多可通过去油、化学清洗等方法除去。

真空镀膜机

本文介绍实验室、工业上常用的真空镀膜的基片清洗方法:

1、烘烤清洗法

(1)效果:可去除水分子。

(2)过程:加热升温基片。在高真空中,加热到300°C高温后,去除残留在基片上的清洗液、水分。在大气环境下,加热到300°C~500°C高温,持续加热时间为三十到六十分钟。

2、擦洗清洗法

(1)效果:可去除附着性强的各种污物。

(2)过程:对于有化学作用的,可用中性洗涤剂擦洗基片。一边用纯水和中性洗涤剂进行喷射,一边用旋转的刷子擦洗基片,冲洗剂选择纯水,烘干气体选择干燥空气或氮气脱水。

3、化学药剂和溶剂清洗法

(1)效果:可去除油脂污物。

(2)过程:通过浸泡于丙酮溶液、强碱溶液、铬酸和硫酸混合液中。去除油污之后,再进行化学清洗,然后是水洗、淡氨水中和、去离子水洗、去水、烘干等一系列工艺过程。

4、离子轰击清洗法

(1)效果:可除去表面污物、吸附物。

(2)过程:采用离子轰击的手段。在10Pa~1000Pa的真空室中放置基片,通过施加0.5kV~1kV的高压使其产生低能量的辉光放电,然后使加速的正离子不断对基片表面进行轰击。

5、洗涤剂清洗法

(1)效果:可去除油脂污物。

(2)过程:通过采用洗涤剂、纯水、乙醇等溶液来进行清洗工作。将基片在沸腾的洗涤剂中浸泡十分钟,然后用纯水冲洗,再浸泡于乙醇当中,然后进行烘干(也可用浸透洗涤剂的纱布来擦洗基片,然后再烘干)。

6、超声波清洗法(作为擦洗清洗后的后处理工艺)

(1)效果:去除附着性强的各种污物。

(2)过程:采用中性洗涤剂、纯水、甲基睾丸酮以及异丙醇液体等洗涤溶液清除油脂污物。中性洗涤剂的擦洗——用纯水进行十五分钟的超声波清洗——纯水冲洗——异丙醇进行十五分钟的超声波清洗——异丙醇清洗——纯水超声波清洗——纯水冲洗——氮气吹风机吹干。

7、蒸气清洗法(先进行超声波清洗或擦洗清洗后再用此工艺)

(1)效果:可除去油脂等碳氢化合物。

(2)过程:采用三氯乙烯、甲基睾丸丙酮、异丙烯等溶液的蒸气。将基片放在沸腾的甲基丸酮、异丙烯或三氯乙烯蒸气中,以溶解附着的油脂。

8、紫外线和臭氧清洗法(作为上述各种方法的后处理工艺)

(1)效果:可去除动物脂等有机物。

(2)过程:利用紫外线物理作用和臭氧的化学作用。将真空镀膜机的基片置于低压紫外线辐照器和臭氧发生器下面,通过用紫外线和臭氧照射,几十秒后可达到较好的洁净效果。在距基片五毫米处的紫外线强度为1.6mW•cm⁻²,臭氧发生器与基片的距离在六厘米左右。