真空镀膜设备类型有哪几种?

真空镀膜工艺具有环保、高效、均匀性好、致密性优越等优点。有以下几种类型:

1.物理气相沉积(PVD)设备

(1)蒸发镀膜设备

电阻加热蒸发、电子束蒸发(E-beam);

(2)溅射镀膜设备

直流溅射(DC Sputtering)、射频溅射(RF Sputtering)、中频溅射;

(3)离子镀设备

阴极电弧离子镀

2.化学气相沉积(CVD)设备

(1)常压化学气相沉积(APCVD)

低压化学气相沉积(LPCVD)2

(3)等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

(4)金属有机化学气相沉积(MOCVD)

(5)原子层沉积(ALD)

应用行业:泛半导体、新能源、无人机、智能穿戴、光学镜片、汽车、电子产品、家具家电、卫浴、包材及塑料装饰件、柔性薄膜等。