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空心阴极硬质镀膜设备的特点有哪些-广东振华真空镀膜设备

空心阴极离子镀膜,简称HCD,全称Hollow cathode discharge deposition,空心阴极硬质镀膜设备由水平位置空心阴极放电沉积枪、真空室、基片架、水冷铜坩埚、抽气泵组等组成。空心阴极放电沉积枪生成的离子电子束在聚焦过后,受偏转极场影响发生90°的偏转,束径被坩埚聚焦磁场影响而变小,汇聚于玵涡中达到镀料蒸发的效果。

设备特征:

1、与其他工艺相比,其绕射性有不少提高,因而作用基材表面膜覆盖程度更完善。

2、运作压力要求范围较大,只要求在0.01Pa-10Pa间的压力范围。

3、在一般的低压大电流设备的电源中使用,可以让电气系统更安全、操作更简单、整体设备成本更低。

4、其通过离子轰击,去除所镀基材表面氧化物,进而形成伪扩散层在膜基界面处,膜层附着力好,镀层致密且均匀,不仅可以镀钛、铬、钼,还可以进行TiC、CrC、TiN等硬质镀膜。

空心阴极硬质镀膜设备整体离化程度高,且有较高密度的带电粒子,具备大量高能中性粒子。因为采用了空心阴极放电沉积技术,跟其它离子镀相比,电子束流要高100倍之多,较其它方法的话离化率要高大概3-4个数量级,金属离子可达22%-40%的生成率。