一、应用背景

随着智能座舱和高端显示技术的快速发展，HUD 抬头显示系统、车载显示玻璃盖板等光学部件对镀膜性能提出了更高要求。膜层不仅需要具备优异的光学性能，还必须在复杂环境下保持长期稳定，同时满足大尺寸、高一致性与规模化生产的需求。

在 HUD 等应用中，反射膜与多层介质膜的厚度精度、折射率稳定性以及膜层附着力，直接影响成像清晰度和亮度利用率。因此，镀膜设备的工艺能力与稳定性成为光学部件制造中的关键环节。

二、光学镀膜制造面临的挑战

① 膜层结构复杂，对工艺集成能力要求高

HUD及高端盖板通常需要金属反射层、介质功能层以及功能性保护层等多层膜系组合，对设备的多工艺集成能力提出更高要求。

② 光学性能窗口窄，厚度控制精度要求高

介质膜层厚度的微小波动都会导致反射率和色偏变化，影响HUD成像效果，对膜厚监控与重复性提出严格标准。

③ 产能与一致性需同步提升

随着车载及消费电子市场放量，光学镀膜需兼顾大批量生产能力与批次间稳定一致，传统低装载量设备逐渐难以满足节拍需求。

④ 膜层可靠性直接影响整机寿命

膜层致密度不足或附着力偏低，易在温湿循环或长期使用过程中产生失效风险，影响终端产品品质。

三、振华真空解决方案

针对高端光学镀膜应用需求，振华真空推出 GFM1916 磁控溅射光学镀膜设备，集成 PVD 与 CVD 工艺能力，并结合离子源辅助系统，实现高性能光学膜层的稳定批量制造。

设备以高自动化、高载量及高精度控制为核心设计理念，兼顾膜层性能、生产效率与工艺稳定性，满足HUD等高标准光学产品的量产需求。

GFM1916磁控溅射光学镀膜设备

1.全自动控制，自动化程度高，操作简单

2.高载量、大产能

圆简式工件架设计，装载量为电子束蒸发镀膜设备的2倍；支持多种工件形状，应用灵活。

3.膜层性能卓越

PVD+CVD镀膜系统及离子源辅助系统，膜层致密，折射率高且稳定，附着力强；支持一次性完成铝膜、介质膜、AF膜沉积。

4.涂层精准控制

配备晶控监测系统精确控制膜层厚度，工艺稳定性高，重复性好。配备SPEEDFLO闭环及全自动控制系统，有效提高Si02的沉积速率，可见光反射率达90%以上，满足HUD应用严苛标准。

应用范围：HUD，玻璃盖板等。