始于1992年,我们专注于真空镀膜领域

新闻资讯

新闻资讯

news

销售咨询

Sales consultant

服务热线

400-900-9105

离子镀膜技术有哪些种类-广东振华真空镀膜设备

离子镀是一种将靶材物料沉积在基材上的镀膜方法,此类镀膜工艺原理是靶材借助电弧被离子化和汽化,然后高速沉积到基材之上。离子镀通常在真空室或惰性气体装置中进行,离子镀膜技术也称为物理气相沉积技术(PVD)。

随着科学技术的飞快发展,离子镀膜技术衍生出很多不同的类型,它们在蒸发源、充入气体、真空环境、离化及离子加速方式等方面均有所不同,其特点及应用也有相应的差别:

1、感应加热离子镀膜,采用高频感应加热,充入惰性气体或反应气体,在10⁻¹~10⁻⁴Pa的真空压力环境下,发生感应漏磁,离子加速方式为DC1kV~5kV的加速电压。特点是能获得化合物镀层,常用于装饰品、机械制品、电子器件的镀膜中。

2、电弧放电型高真空离子镀膜,采用电子束加热,真空或充入反应气体,通过利用蒸发源热电子或热灯丝发射电子促进离化(0-700V的加速电压)。特点是离化率高、膜层质量优良,常用于机械制品、刀具、装饰等镀膜。

3、多弧离子镀膜,采用阴极强光辉点为蒸发源,真空或充入反应气体,在10⁻¹~10Pa的真空压力环境下,利用蒸发原子束的定向运动发生热电离、 场离子发射, 弧光放电产生的离子。特点是离化率高、 沉积速率大,常用于刀具、机械制品、模具等镀膜。

4、簇团离子束镀膜,采用电阻加热, 从坩埚中喷出的是簇团状的蒸发颗粒,充入真空或反应气体,在10⁻²~10⁻⁴Pa的真空压力环境下,发生电子发射, 从灯丝发出的电子的碰撞作用,0~数千伏的加速电压, 离化和加速独立操作。特点是既能直接镀化合物膜又能镀纯金属膜,如ZnO,常用于音响器件、电子器件等。

5、电场蒸发,采用电子束加热,在10⁻²~10⁻⁴Pa的真空压力环境下,利用电子束形成的金属等离子体,以数百伏至数千伏的加速电压,离化和加速连动操作。特点是真空蒸镀带电场,其膜层质量好,常用于电子器件、音响器件等。

6、低压等离子体离子镀膜(LPPD),采用电子束加热,充入惰性气体、反应气体,在10⁻¹~10⁻²Pa的真空压力环境下,发生等离子体离化,离子加速方式为DC或AC,50V的加速电压。特点是结构简单,能获得TiC、TiN、Al₂O₃等化合物膜层,常用于机械制品、电子器件、装饰品当中。

7、多阴极型,采用电阻加热或电子束加热,真空或充入惰性气体、反应气体,在10⁻¹~10⁻⁴Pa的真空压力环境下,依靠热电子、 阴极放出的电子以及辉光放电,零至数千伏的加速电压离化和离子加速可独立操作。特点是采用低能电子,使其离化效率高、膜层质量可控制等,常用于精密机械制品、电子器件、装饰品当中。

8、直流放电二极型(DCIP),采用电阻加热或电子束加热,充入氩气及也可充入少量反应气体,在5* 10⁻¹~10⁰的真空压力环境下发生离子镀,被镀基体为阴极,利用高电压宜流辉光放电,在数百伏至数千伏的电压下加速,离化和离子加速一起进行。具备绕射性好、附着性强、基材的温度易上升、膜结构及形貌差、若用电子束加热则必须选用差压板,常用于耐腐蚀、润滑、机械制品中。

9、射频放电离子镀(RFIP),采用电阻加热或电子束加热,真空或充入氩气及其它惰性气体、反应气体如O₂、 N₂、CH₄、C₂H₂等,可在10⁻¹~10⁻³Pa的真空压力环境下,发生射频等离子体放电(13.56MHz),以零至数千伏的加速电压,离化和离子加速独立操作。特点是杂质气体少、成膜质量好、化合物成膜更好,但是匹配较困难,常用于光学,半导体器件、装饰品、汽车零件等。

10、空心阴极放电离子镀膜(HCD),采用等离子电子束加热,充入氩气及其它惰性气体、反应气体,可在10⁻²~10⁰Pa的真空压力环境下,利用低压大电流的电子束碰撞,以零至数百伏的加速电压离化和离子加速器和离子加速独立操作。特点是离化效率高、电子束斑较大,可镀金属膜、介质膜化合物膜等,常用于耐磨镀层、装饰镀层、机械制品当中。

11、活性反应蒸镀(ARE),采用电子束加热,充入反应气体O₂、N₂、CH₄、C₂H₂等,可在10⁻¹~10⁻²Pa的真空压力环境下,依靠电子束和正偏置探极之间的低压等离子体辉光放电。是一种二次电子,无加速电压,也有在基片上加有零至数千伏加速电压的ARE。特点是蒸镀效率高,能获得TiC、TiN、Al₂O₃等化合膜,常用于电子器件、机械制品、装饰品当中。

12、增强的ARE型,采用电子束加热,充入氩气及其它惰性气体,反应气体如O₂、N₂、CH₄、C₂H₂等,可在10⁻¹~10⁻⁴Pa的真空压力环境下,探极除了吸引电子束的一次电子、二次电子外,增强极发出的低能电子促进离化,它没有加速电压,也有在基片上如有零至数千伏加速电压的增强的ARE。特点是易离化,基板所需功率和放电功率能独立调节,膜层厚度容易控制,常用于电子器件、机械制品、装饰品、光学器件当中。

采用离子镀膜技术获得的膜层均匀且超薄,因此非常适合形状不均匀或不规则的基材镀膜,更为重要的是,通过离子镀沉积的膜层,具有很强的硬度、耐久性、耐腐蚀性以及粘合性。