始于1992年,我们专注于真空镀膜领域

新闻资讯

新闻资讯

news

销售咨询

Sales consultant

服务热线

400-900-9105

高真空镀膜设备有哪些气源-广东振华真空镀膜设备

在高真空镀膜领域,气体和固体表面相互作用,以及固体内部溶解的气体和固体表面相互作用而发生化学反应产生的气体是一个重要的气源。不锈钢中的碳扩散到金属表面,与氧发生化学反应而生成一氧化碳。

高真空镀膜设备

在高真空镀膜设备的真空系统中,加热金属灯丝后,水蒸气、一氧化碳及甲烷的分压增加了。这些气体的增加与氢的存在有关。降低氢的分压以后,这些气体的分压随着也降低。由于氢是分解成原子态扩散到金属内部的,化学性又活泼,在金属内部和表面容易起化学反应。真空系统内,在金属壁和玻璃壁上能同时进行多种化学反应。各种材料的历史和使用条件不同,化学反应生成的气体也不同。在极高真空情况下,氢气以外的气体和氢气的存在有一定关系,因此,减小氢气的分压仍然是主要的。

有人用热化学平衡理论处理真空系统的残余气体的相互作用,建立了由它们引起的平衡压力方程式,求出这些反应产生的气体的平衡分压力,这是处理真空系统残余气体的一个新的尝试。

利用高真空镀膜设备的真空系统内或表面上发生化学反应的事实,可以用来减少难以排除的气体,即通过化学反应将难以排除的气体转变为易于排除的气体。村上义夫提出把残余的氢气氧化成水蒸气,然后把水蒸气用液氮冷阱抽除掉,就是这方面的一个努力。