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真空溅射镀膜有哪些类型-广东振华真空镀膜设备

真空溅射镀膜的指的是荷能粒子轰击靶,使固体原子/分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,通常称为溅射原子。用于轰击靶的荷能粒子可能是离子,中型粒子或电子,因为离子易于在电场下加速同时获得所需动能,因此大多溅射镀膜工艺采用离子作为轰击粒子。该轰击粒子又称入射离子。由于直接实现溅射的机构是离子,所以这种镀膜工艺又称为离子溅射镀膜或淀积技术。溅射镀膜的方式很多,比较具有代表性的方法有:

真空溅射镀膜

1、磁控溅射镀膜(或高速,低温溅射)。在与靶表面平行的方向上施加磁场,利用电场与磁场正交的磁控管原理,减少电子对基板的轰击,实现高速低温溅射镀膜;

2、直流二极溅射镀膜。构造简单,在大面积基板上可制取均匀薄膜,放电电流随压强和电压的改变而变化;

3、离子束溅射镀膜。在高真空下,利用离子束溅射镀膜,是非等离子体状态下的成膜过程。靶接地电位也可;

4、偏压溅射镀膜。镀膜过程中同时清除基片上轻质量的带电粒子,从而使基板中不含有不纯气体;

5、三极或四极溅射镀膜。可实现低气压,低电压溅射镀膜,可独立控制放电电流和轰击靶的离子能量。可控制靶电流,也可进行射频溅射;

6、反应溅射镀膜。可制作阴极物质的化合物薄膜,如氮化钛,碳化硅,氮化铝,氧化铝等;

7、射频溅射镀膜。为制取绝缘薄膜,如氧化硅,氧化铝,玻璃膜等而研制,也可溅射金属;

8、吸气溅射镀膜。利用对溅射粒子的吸气作用,除去不纯物气体,能获得纯度高的薄膜。

9、对向靶溅射镀膜。两个靶对向放置,在垂直于靶的表面方向加磁场,可以对磁性材料等进行高速低温溅射;

10、非对称交流溅射镀膜。在振幅大的半周期内对靶进行溅射,在振幅小的半周期内对基片进行离子轰击,清除吸附的气体,以获得高纯薄膜;

早在1842年,格罗夫就已经发现了阴极溅射现象。他是在进行电子管的阴极腐蚀问题研究时发现的,因为阴极材料会迁移到真空管壁上面去的现象而得出的结论。从1870开始,就已经将溅射原理应用于真空溅射镀膜,但是,在过去的100多年中溅射镀膜工艺的发展很缓慢。1940年以后,发现了溅射膜层具有极其优良的性能,同时改善溅射装置,提高溅射镀膜速率的各种新工艺相继出现,后来达到了实用化的程度,这才使真空溅射镀膜技术迅速的发展,并在工业上得到了广泛应用。